DGAP-News: Roth&Rau AG: 20 % Wirkungsgrad auf 156mm Wafergröße mit neuer Roth&Rau Hocheffizienztechnologie
ID: 474496
Roth&Rau AG: 20 % Wirkungsgrad auf 156mm Wafergröße mit neuer Roth&Rau Hocheffizienztechnologie
06.09.2011 / 09:00
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20 % Wirkungsgrad auf 156mm Wafergröße mit neuer Roth&Rau
Hocheffizienztechnologie
Hohenstein-Ernstthal/Neuchâtel, 6. September 2011 - Auf der PVSEC
Photovoltaik Konferenz wird die Roth&Rau AG in dieser Woche die aktuellen
Entwicklungsergebnisse vorstellen, die in der Roth&Rau-Forschungslinie
und der Pilotlinie erreicht wurden. Das Unternehmen entwickelt seit Mai
2008 Hocheffizienz-Solarzellen basierend auf der
Hetero-Junction-Technologie und schloss dazu eine Kooperation mit EPFL/IMT
an der Universitéde Neuchâtel. In der Zwischenzeit wurden gemeinsam die
damaligen Forschungsergebnisse des Instituts in industrielle Prozesseüberführt und systematisch weiterentwickelt. In der Forschungslinie der
Roth&Rau Switzerland AG wurde weltweit erstmals auf 156mm industriellen
monokristallinen Silizium-Wafern mit der Hetero-Junction-Technologie 20 %
Wirkungsgrad erreicht. Die Pilotlinie in Hohenstein-Ernstthal, in der die
Prozesse bereits auf Massenproduktionsanlagen skaliert werden, kann
ebenfalls hervorragende Ergebnisse aufweisen, die an der PVSEC Konferenz
präsentiert werden. 'Der hohe Wirkungsgrad der Hetero-Junction-Technologie
kombiniert mit dem hervorragenden Temperaturkoeffizienten (>5 %
zusätzlicher Energieertrag pro Modul) adressieren die entscheidenden
Kostenhebel der Photovoltaik. 'Es freut mich, dass es Roth&Rau in so
kurzer Zeit gelungen ist, diese Technologie aus der Forschung zur
Produktionsreife zu bringen', kommentiert Dr. Dietmar Roth,
Vorstandsvorsitzender der Roth&Rau AG, den aktuellen Fortgang des
Projekts.
Die Hetero-Junction-Technologie ist eine bereits bekannte Technologie, die
bis heute aber erst von einer einzigen Firma industriell genutzt wird.
Hetero-Junction-Zellen basieren auf einem Niedertemperatur-Herstellkonzept.
Sie zeichnen sich durch eine hervorragende Passivierung aus, welche zu sehr
hohen Wirkungsgraden und ausgezeichnetem Temperaturverhalten führt. Diese
Hocheffizienztechnologie bietet damit Roth&Rau-Kunden die Möglichkeit in
ihren Erweiterungsinvestitionen entscheidende Kosteneinsparungen zu
realisieren und sichert Roth&Rau die Führerschaft in diesem attraktiven
Marktsegment für Produktionsanlagen.Über die Roth&Rau AG:
Die Roth&Rau AG mit Sitz in Hohenstein-Ernstthal gehört seitüber 10
Jahren zu den weltweit führenden Anbietern von Produktionsequipment und
innovativen Fertigungstechnologien für die Photovoltaikindustrie. Im
Geschäftsbereich Photovoltaik bietet Roth&Rau vor allem
Antireflexbeschichtungsanlagen sowie verschiedene Beratungs- und
Technologietransferleistungen für die Installation kompletter
Produktionslinien für die Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen
an. Weitere Produkte sind Anlagen für thermische Prozesse, die ebenfalls
bei der Herstellung kristalliner Silizium-Solarzellen verwendet werden
sowie Beschichtungsanlagen und Technologiesupport für die Herstellung von
Dünnschichtsolarmodulen. In dem im Ortsteil Wüstenbrand ansässigen
Tochterunternehmen Roth&Rau MicroSystems werden auf spezielle
Kundenbedürfnisse zugeschnittene Prozesssysteme für plasma- und
ionenstrahlgestützte Dünnschicht- und Oberflächenbearbeitungsverfahren
entwickelt und gefertigt. Kunden sind insbesondere Unternehmen der
Halbleiterindustrie, Forschungs- und Entwicklungsabteilungen verschiedener
anderer industrieller Branchen sowie Forschungsinstitute und Universitäten.
Das Portfolio der Roth&Rau-Gruppe wird ergänzt durch Softwareprodukte im
Bereich Anlagensteuerung und Produktionsüberwachung sowie Wartungs- und
Serviceangebote.
Kontakt:
Roth&Rau AG
Dr. Silvia Roth
Tel.: +49 (0) 3723/671-3333
E-Mail: investor@roth-rau.de
Ende der Corporate News
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Unternehmen: Roth&Rau AG
An der Baumschule 6-8
09337 Hohenstein-Ernstthal
Deutschland
Telefon: 03723 6685-0
Fax: 03723 6685-100
E-Mail: info@roth-rau.de
Internet: www.roth-rau.de
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Börsen: Regulierter Markt in Frankfurt (Prime Standard);
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