SSENTECH Seminar Plasma Process Technology 2015

Zum 9. Mal fand am Donnerstag, den 05. März 2015 das von SENTECH organisierte Plasma Seminar in Berlin-Adlershof statt. Ziel dieser Veranstaltung über Plasma-Prozess-Technologien ist der intensive (nachhaltige) Wissensaustausch mit unseren Kunden, das Fördern eines Plasma-Netzwerkes (einer eigenen Plasma Community), das Vorstellung neuer Produkte sowie das Gewinnen neuer Interessenten. Auch in diesem Jahr kamen rund 50 Gäste aus Industrie und Wissenschaft und machten durch die von Ihnen angeregten spannenden Diskussionsrunden dieses Event zu einem vollen Erfolg.

(firmenpresse) - Auf dem Seminar wurden interessante Themen aus den Bereichen Plasmaätzen, Plasma-beschichten und Atomlagenabscheidung durch externe Vortragende sowie Spezialisten von SENTECH Instruments beleuchtet. Ein Highlight dieser Vorträge war das Referat von Herrn Dr. Daniel Kasemann vom Institut für Angewandte Photophysik (IAPP) der Technische Universität Dresden, der von Einsatz der ALD bei der Herstellung von organischer Elektronik sprach. Hier dienen z.B. die dünnen hochdichten mit ALD abgeschiedenen Al2O3-Schichten oder Schichtsysteme als Wasserbarriere zur die Verkapselung von OLEDs oder als Gate Dielektrikum bzw. Source Isolation in Feldeffekttransistoren.
Ein weiteres Highlight aus dem Bereich Atomlagenabscheidung, das beim Publikum ebenfalls (gleichfalls) großen Anklang fand, war die Präsentation des SENTECH ALD Real Time Monitor. Mit diesem schnellen in-situ Schichtdickenmessgerät wird die Beobachtung des Oberflächen¬wachstums in Echtzeit und somit die einfache Optimierung der Abscheidungsprozesse möglich. So lassen sich beispielsweise einzelne Prozessparameter gezielt an nur einem Substrat mit verringertem Präkursorverbrauch und minimalem Zeitaufwand anpassen.
Der letzte Seminarteil an einem rund um gelungenen Tag hatte die Plasmaätztechniken zum Schwerpunkt. Hier sprach Yuqing Jiao vom Nanolab der Technischen Universität Eindhoven, die sich erst im Vorjahr einen SENTECH ICP-RIE Ätzer SI 500 zugelegt hatten, über seine Ergebnisse beim InP-Ätzen mit diesem Tool. Neben dem ICP-Ätzen mit CH4/H2 Chemie von InGaAsP / InP / InGaAs Multilagen mit sowohl Photoresist- als auch Nitrid-Maske wurden sehr schmale 400 nm breite und 300 nm hohe Indiumphosphid Wellenleiter mit galten nahezu senkrechten Seitenwänden im RIE Mode geätzt. Hierbei wurde eine Selektivität von InP zur Nitrid-Maske von über 100 erreicht.
Am Ende der Veranstaltung konnten die Teilnehmer die Laborräume sowie die Fertigung von SENTECH Instruments besuchen und äußerten sich anschließend durchweg positiv über ein informatives Seminar.


Motiviert durch den Erfolg unserer bisherigen Vortragsreihen plant SENTECH bereits am 18. Juni 2015 ein weiteres Seminar in Stuttgart über die Dünnschichtmesstechnik abzuhalten. Und auch dieses Plasma-Event wird sicher, beflügelt durch die Zusprüche unserer Kunden, im nächsten Jahr weiter fortgesetzt.
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Datum: 29.04.2015 - 09:37 Uhr
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