DGAP-News: Samsung LED steigert HB LED-Produktion mit AIXTRON G5-Anlagen
ID: 407038
Samsung LED steigert HB LED-Produktion mit AIXTRON G5-Anlagen
17.05.2011 / 07:57
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Samsung LED steigert HB LED-Produktion mit AIXTRON G5-Anlagen
Aachen, 17. Mai 2011 - Samsung LED hat AIXTRON (FSE: AIX; NASDAQ: AIXG)
einen Großauftragüber AIX G5 HT MOCVD*-Anlagen erteilt. Die G5 gilt als
derzeitiger Industriestandard für die Herstellung von LEDs.
Samsung LED nutzt bereits seit einigen Jahren AIXTRONs AIX 2800G4 HT
MOCVD-Anlagen für die Herstellung von Galliumnitrid (GaN). Nach der
erfolgreichen Inbetriebnahme der beiden ersten G5-Anlagen in 2010 sowie
Anfang 2011 will der Hersteller jetzt seine Kapazitäten mit AIXTRONs G5
Planetary Reactor(R)-Anlagen neuester Generation weiter steigern.
Die Anlagen werden im Laufe des Jahres 2011 in Samsungs moderner
Produktionsstätte installiert. Sie sind für die Massenproduktion sehr
heller blauer und weißer GaN-basierter LEDs für die TV-Hintergrund- sowie
die Festkörperbeleuchtung vorgesehen.
'Als führender Anbieter sehr heller GaN-basierter LEDs in Korea steigert
Samsung LED seine Kapazitäten kontinuierlich', erläutert Dr. Bastian
Marheineke, Vice President Sales bei AIXTRON. 'Diese Absicht verfolgt das
Unternehmen auch mit der aktuellen Bestellung, mit der sich der Hersteller
für weitere Reaktoren von AIXTRON entschieden hat. Die neuen Anlagen werden
Samsung LED bei dem Vorhaben unterstützen, auch künftig den Spitzenplatz in
der Herstellung von LEDs für die Massenproduktion zu besetzen.'
Samsung LED wurde im April 2009 gegründet und gilt als einer der am
schnellsten wachsenden LED-Hersteller weltweit. Heute ist das Unternehmen
Weltmarktführer in der Herstellung von Modulen für die
LED-Hintergrundbeleuchtung mit der weltweit modernsten technologischen
Ausstattung. Ein ultradünnes BLU**-Modul minimiert die Dicke von Displays,
etwa bei Fernsehgeräten, Notebooks, Monitoren und Digitalanzeigen. Samsung
strebt in diesem Jahr weltweit die Spitzenposition im gesamten LED-Segment
an.
* MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische
Gasphasenabscheidung
** BLU, Backlight Unit = Hintergrundbeleuchtung
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