SENTECH Seminar „Plasma-Prozesstechnologie“ 2014
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SENTECH hat am 27. Februar 2014 ein Seminar zur Plasma Prozesstechnologie organisiert Das Seminar fand in den Räumen von SENTECH Instruments in Berlin Adlershof statt. Das Seminar war bereits das 8. Plasma Seminar und wurde von mehr als 50 Teilnehmern aus Industrie, Forschung und Universitäten besucht.
Von eingeladenen Referenten und von SENTECH Mitarbeitern wurden neuste Entwicklungen beim Plasma Ätzen, bei der ICPECVD Beschichtung und bei der (plasma enhanced) PEALD präsentiert. Das Seminar bot vielfältige Gelegenheiten zum Gedankenaustausch und zum Networking.
Ein besonderes Highlight des Seminars stellte der Vortrag von Herrn Bülow, TU Braunschweig, dar, welcher zum Thema ALD kombiniert mit ICPECVD referierte und insbesondere die OLED Verkapselung in den Fokus stellte. Herr Voigt vom Leipnitz Institut für Photonische Technologien, Jena, stellte einen Überblick an verschiedenen Si-Ätztaufgaben in einem Übersichtsvortrag dar, welcher die besondere Effizienz der ICP Ätzer von SENTECH zeigte. Ein besonderer Höhepunkt war der Vortrag von Herr Lukosius vom IHP Frankfurt/Oder über „Challenges in graphene synthesis and semiconductor/graphene structures“.
Alle Besucher hatten die Möglichkeit die SENTECH Applikationslabore sowie die Fertigungseinrichtungen zu besichtigen. Die Teilnehmer äußerten sich außerordentlich positiv und beschrieben das Seminar als besonders gelungen, informationsreich und gut organisiert. Hervorgehoben wurden auch die besonderen Möglichkeiten zum Knüpfen neuer Kontakte und das Kennenlernen neuer Anwendungen und Forschungsaspekte in der Plasma-Prozesstechnologie.
Motiviert durch den Erfolg des Seminars über Plasma Prozess Technologie plant SENTECH auch in der Zukunft solche Seminare anzubieten.
Die Präsentationen und Produktinformationen werden kostenlos zur Verfügung gestellt. Bitte kontaktieren Sie uns auf unserer Webseite.
Themen in dieser Pressemitteilung:
Unternehmensinformation / Kurzprofil:
SENTECH Instruments gehört zu den führenden Anbietern von Plasma-Prozesstechnologie Anlagen zum Beschichten und Ätzen und offeriert Ellipsometer zur Dünnschichtmesstechnik.
Die modernen Plasma Anlagen basieren auf der von SENTECH entwickelten PTSA Plasma Quelle (planar triple spiral antenna) für induktiv gekoppelte Plasmen. Die besonderen Eigenschaften des ICP Plasmas erlauben insbesondere das schädigungsarme Prozessieren beim Ätzen und Beschichten sowie das Beschichten bei niedrigen Temperaturen. Die jüngste Produktentwicklung bei SENTECH erweitert die ICPECVD Beschichtung um die Atomlagen Abscheidung ALD (Atomic Layer Deposition). Die ALD Anlagen stellen jetzt die neueste und innovativste Erweiterung der SENTECH Plasma Produktpalte dar.
Datum: 24.03.2014 - 16:03 Uhr
Sprache: Deutsch
News-ID 1036901
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Kontakt-Informationen:
Ansprechpartner: Pia Romanowski
Stadt:
Berlin
Telefon: : +49 30 63 92 55 20
Kategorie:
Oberflächentechnik
Meldungsart: Unternehmensinformation
Versandart: Veröffentlichung
Freigabedatum: 24.03.2014
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