Silberinseln abgeschieden mit Atomic Layer Deposition
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Auf der NRW Nano Conference präsentierte SENTECH den ALD Real Time Monitor als in situ Messgerät, um das Wachstum von Silberinseln zu beobachten.
Der neue ALD Real Time Monitor bietet die Chance ALD Prozessparameter zu optimieren. Erstmals wurde dieser auf diesem wichtigen Event auch dem deutschen Publikum präsentiert. Innerhalb einer Postersitzung konnte SENTECH dem interessierten Publikum die Vorteile des neuen Gerätes deutlich machen. Die einmalige hohe Zeitauflösung und die nutzerfreundliche Softwareintegration in das SENTECH ALD System zeichnen den ALD Real Time Monitor aus.
Das Poster widmete sich insbesondere der In Situ Untersuchung von Silber Nanopartikeln, die bei der Abscheidung von Silber in der SENTECH ALD Anlage entstehen. Dr. Irina Kärkkänen, ALD Spezialistin bei SENTECH, präsentierte auf diesem Poster die Ergebnisse von SENTECH: „Silber Nanopartikel sind im ALD Reaktor abgeschieden worden. Das Wachstum der Silberinseln wurde fortlaufend mit dem ALD Real Time Monitor gemessen. Dabei beträgt die Zeitauflösung nur 40 ms. Die extrem hohe Präzision und extrem schnelle Datenaufnahme erlauben die zeitliche Auflösung der einzelnen ALD Schritte“. Zusammenfassend hebt Sie hervor: „Mit dem optimierten Prozess wurden Silber Nanoinseln abgeschieden, wie die SEM Bilder verdeutlichen.“
Wir sind stolz auf die vielfältigen Anwendungsmöglichkeiten, welche der ALD Real Time Monitor in der Praxis ermöglicht. Für mehr Informationen über den ALD Real Time Monitor, kontaktieren Sie uns bitte!
Themen in dieser Pressemitteilung:
Unternehmensinformation / Kurzprofil:
SENTECH Instruments entwickelt, produziert und verkauft hochqualitative Geräte für die Plasma- prozesstechnologie, die ALD, die Dünnschichtmesstechnik und die Photovoltaik.
Datum: 17.12.2014 - 10:33 Uhr
Sprache: Deutsch
News-ID 1151233
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Kontakt-Informationen:
Ansprechpartner: Pia Romanowski
Stadt:
Berlin
Telefon: +49 30 63 92 55 20
Kategorie:
Messtechnik
Meldungsart: Produktinformation
Versandart: Veröffentlichung
Freigabedatum: 17.12.2014
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