SENTECH im regen Erfahrungsaustausch mit Ellipsometer-Nutzern auf dem 8. Ellipsometrie Workshop (WSE 2014) in Dresden

Der Austausch mit bestehenden Nutzern der SENTECH Messtechnik ist uns als Hersteller und Lieferant von hochwertigen Geräten der Metrologie besonders wichtig. Zu unseren umfassenden Serviceleistungen gehört selbstverständlich auch die spätere Betreuung nach dem Kauf eines unserer Geräte. Für SENTECH ist es oberste Priorität, dass die Nutzer unserer Anlagen und Geräte langfristig zufrieden sind. Daher nehmen wir gern die Chance wahr, um mit unseren bestehenden Nutzern auf Events wie dem Ellipsometrie Workshop 2014 in Dresden ins Gespräch zu kommen und über die neusten Anwendungen unserer Geräte zu sprechen.

(firmenpresse) - Dieses dreitägige Event wurde vom Leibniz Institute für Polymerforschung in der Dreikönigskirche in Dresden organisiert. Dabei wurden die neuesten Entwicklungen bezüglich Applikation und Forschung im Bereich Ellipsometrie vorgestellt und diskutiert. Im Focus standen dabei unter anderem Untersuchungen im Zusammenhang mit der Auswertung der Müller-Matrix. In diesem Trend bieten wir eine smarte Option zur Bestimmung aller 16 Müller-Matrix-Elemente für die SENresearch Produktfamilie an.
Darüber hinaus beteiligte sich SENTECH auch in diesem Jahr wieder mit zwei Postern am Ellipsometrie Workshop 2014. Das erste Poster beschrieb die Einbindung der Dünnschichtmesstechnik in den SENTECH Plasma-Anlagen, speziell in den ALD-Systemen. Das Schichtwachstum einzelner ALD Zyklen wird mittels unserer Laser- oder spektroskopischen Ellipsometer aufgelöst. So können Abscheidungsprozesse in situ kontrolliert und optimiert werden. Auf dem zweiten Poster stellten wir die Ergebnisse unserer Messungen an Graphen-Flakes vor. Die erstaunliche Genauigkeit und Auflösung ermöglicht es die Stufen einzelner Monolagen sichtbar zu machen.
Das gute Feedback, welches wir auf diesem und vielen anderen Veranstaltungen von unseren Nutzern bekommen, motiviert uns, auch in Zukunft die Qualität unserer Geräte und unseren besonders umfassenden Service beizubehalten und zu optimieren.

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Bereitgestellt von Benutzer: SentechPia
Datum: 28.04.2014 - 11:41 Uhr
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Kategorie:

Forschung

Meldungsart: Messeinformation
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Freigabedatum: 28.04.2014

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